RKDエンジニアリングのElite Etch Cu ESDは、高度な機能を統合することで高い生産性を実現する、自動化された混合酸デカプセル化装置です。
このデカプセル化装置は、硝酸、硫酸、または混合酸を微量かつ正確にサンプル表面に滴下することで、繊細な集積回路パッケージを迅速に開封します。
この ESD モデルには、IC パッケージ内の回路を損傷する可能性のある危険な静電放電を防ぐための ESD 軽減環境が含まれています。
Elite Etch Cu ESD 7200モデルは、重要なESD保護回路を内蔵しており、開封時に脆弱なパッケージにESDによる損傷が徐々に発生する可能性を排除します。
従来の非導電性PTFEでは、酸性ラインチューブの内面に電荷が蓄積し、残留電荷を中和することができません。
電荷がPTFEの絶縁耐力を超えると、絶縁破壊が発生します。
本システムでは、電気散逸性PTFEを使用することで、PTFEに関連するESDの危険性を排除しています。
Elite Etch Cu ESD 7200は、高インピーダンス抵抗ネットワークに接続された導電性ラムノーズを備えており、開封時のESD(静電気放電)を軽減します。
プラスチック封止されたIC自体が静電気のない環境で作業を行う上で特に重要です。
このソリューションは、電気的に絶縁されながらも静電気を拡散するラムノーズアセンブリと、電気的に機能するPTFEを組み合わせることで実現します。
これらのコンポーネントにより、開封プロセスにおいて開封対象部品内のESDリスクをすべて排除します。
このシステムには、ESDパネルに取り付けられた2つのソケットと、ESDピンセットとリストストラップを取り付けるための回路が装備されています。
リストストラップは、開封されたパッケージの取り扱い(開封装置からの部品の取り出し、洗浄、乾燥など)時にESDの問題を軽減するために着用できます。
エッチャーユニット | 高さ: 300 mm (13 インチ) 幅: 190 mm (7.5 インチ) 奥行き: 305 mm (12 インチ) |
ボトル組み立て | 高さ: 254 mm (10インチ) 幅: 280 mm (11インチ) 奥行き: 127 mm (5インチ) |
重さ | 約16 kg(35ポンド) |
電源 | 90~250 VAC、50~60 Hz(4アンペア) |
酸温度範囲 | 10°~250°C |
酸温度設定点 | 設定値の1°C±1% |
エッチングキャビティ(最大) | 22 mm x 22 mm(対角30 mm) |
酸の選択 | 発煙硝酸、発煙硝酸と硫酸の混合、または発煙/濃硫酸 |
酸の混合比 | (硝酸と硫酸の比率)9:1、6:1、5:1、4:1、7:2、3:1、5:2、2:1、3:2、1:1、1:2、1:3、1:4、1:5 |
エッチング後のリンスオプション | 硫酸、発煙硝酸、混酸、またはすすぎなし |
エッチング時間 | 1秒から2,400秒まで1秒単位で(1秒から40分まで)エッチング時間を動的(リアルタイム)に調整 |
エッチング液量選択 | 1~8 ml/分 – すべての酸および酸混合物 |
エッチングデリバリー機能 | 酸消費量を抑えるためのパルスエッチングまたは相互エッチング酸パルス(REAP) |
オペレータプログラムストレージ | 100個のプログラムを不揮発性メモリに保存 |
周囲温度範囲 | 15°~26°C |
周囲の湿度 | 0~70%(結露なし) |
保証 | 業界で最も包括的で包括的な保証(詳細についてはお問い合わせください) |